サムスンの最新の6nmシリコンチップが北米のスマートフォン市場向けに大量生産され、クアルコム向けですか?

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サムスン電子は、TSMCがAMDとNVIDIA向けに生産している7nmチップよりも小さい6nmシリコンチップを大量生産していると報告されています。 6nm EUV技術の完成度は、5nmや3nmを含むさらに小さなダイサイズにさらに拡大されることが期待されており、それも近い将来に起こります。サムスンは北米市場向けに6nmシリコンチップを製造しているようです。

サムスンは、半導体サイズで台湾のライバルに追いつくことができただけでなく、さらに小さなサイズのダイでそれを上回りました。同社は、TSMCと競争するために、6ナノメートルのプロセス生産ラインの開発を開始していました。しかし、韓国のニュース出版物は現在、サムスンが6nmシリコンチップの設計と開発段階を超えたと報告しています。地元の出版物によると、サムスンは先月、Extreme UltraViolet(EUV)技術に基づいた6ナノメートル(nm)の半導体の量産を開始しました。



サムスンは記録的な時間内に6nmシリコンチップを大量生産することでTSMCに先んじて競争します:

サムスンは昨年4月に7nm製品の量産と世界の顧客への供給を開始しました。つまり、6nm製品の量産を開始するのにわずか8ヶ月しかかかりませんでした。言うまでもなく、Samsungの微細加工プロセス技術のアップグレードサイクルは大幅に短縮されたようです。



現地の報道によると、サムスン電子は昨年12月、京畿道華城キャンパスのS3ラインでEUV技術をベースにした6nm製品の量産を開始した。情報筋によると、Samsungは主に北米市場向けに6nmシリコンチップの製造に着手した。さらに、報告によると、サムスンはこの地域の大企業の顧客に株式の大部分を供給します。業界の専門家は、Samsungの6nm製品は、世界で2番目に大きなファブレス企業であるQualcommに向かっていると結論付けています。



韓国の半導体大手が16nmと12nmのプロセスに続く7nmプロセスの開発に遅れをとったという理由だけで、最小サイズのシリコンチップウェーハの製造におけるSamsungの突然のリードは確かに驚くべきことです。遅延は非常に深刻だったため、TSMCは7nmテクノロジーを通じて、ファブレスの最大の顧客であるiPhone向けのAppleへのAP供給を独占することに成功しました。

サムスン電子は6nmチップの量産に成功した後、5nm製品を開発していると噂されており、今年上半期に量産される可能性があります。それが十分に驚くべきことではない場合、同社は同じ時間枠で3nm製品も大量生産できると考えられています。噂によると、SamsungはGate-All-Around(GAA)テクノロジーに基づく3nmチップの製造プロセスの開発の最終段階にあります。興味深いことに、この技術は半導体の小型化の限界を克服し、理論的にはダイサイズをさらに縮小するための扉を開きます。

14 nm Fin Field-Effect Transistor(FinFET)プロセスが画期的であると見なされた2014年に、SamsungはTSMCを大幅に上回りました。しかし後者は、しばらくして7nmチップの大量生産に成功し、韓国の技術大手を追い抜いた。による判断 伝えられるところによると、Intelは苦労している 、開発も FinFETプロセスでのシリコンチップの大量生産 シンプルです。

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